| POLYMERS Vol.61 No.9 |
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特集 纳米压印技术开创的未来工业制造技术-我公司的探索 |
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大约在20年前，产业界几乎看不到可量产的50纳米以下的细微加工技术。直到1995年，出现了纳米压印光刻技术，高分子光刻材料的成型加工和金属纳米加工技术。现在的尖端研究包括几个纳米级的半导体加工以及元器件的开发。纳米压印技术作为非常有效的纳米制造技术工具，在20纳米以下的纳米电子材料磁性记录媒体以及LED的高效率化等领域中有望得到应用。本特集介绍了诸多公司的纳米压印技术的开发史以及它们的各种技术突破，攻关材料，工艺技术，元件技术等。 （Editors :中川，海田，多加谷，客座编辑 松井真二氏（兵库县立大） |
| Digest for English Readers | 680
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| 热门话题 | 683
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| 述评 |
| 纳米压印技术的展望 | 古室昌徳 | 684
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| 话题 |
| 高耐蚀刻纳米压印材料 | 岛谷 聪 | 685
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| UV固化纳米压印材料的开发 | 三宅弘人 | 687
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| 高分子复制模具及其大型化技术 | 三泽毅秀 | 689
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| Roll-to-Roll用SRP(Seamless Roller Mold)模的开发 | 阿部诚之 | 691
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| NIL模具-朝向亚20 nm的挑战- | 法元盛久 | 693
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| 纳米加工技术的产业化应用 | 宫内昭浩 | 695
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| LED用纳米压印技术及装置的开发 | 小久保光典 | 697
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| 以自我技术挑战的下一代半导体/HDD的制备 | 和田英之 | 699
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| 纳米压印在光纤激光通讯技术中的应用 | 柳泽昌辉 | 701
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| 纳米压印在元器件开发中的应用 | 坂本 宽 | 703
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| Polyman 画 | 705
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| 高分子科学最新进展 |
| 纳米压印光刻技术中的脱模技术的最新进展 | 中川 胜 | 706
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| 高分子科学与我：个人独白 |
| 以往十年，往后的十年 | 和久友则 | 710 |
| Messages: “Work and Life” |
| Japan Inter-Society Liaison Association Committee for Promoting Equal Participation of Men and Women in Science and Engineering | Kazue KURIHARA | 711
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| MACRO Economy | 712
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| SPSJ 60th Anniversary: Messages from Research Group | 713
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| Messages from SPSJ | 720
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