| POLYMERS Vol.61 No.9 |
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특집 나노임프린트 기술이 만들어가는 제조업의 미래 -회사별 접근방식- |
| 지금으로부터 약 20여 년 전에는 양산화가 가능한 50nm 미만의 미세 가공기술은 존재하지 않았다. 1995년에 접촉 조형방식의 나노임프린트 리소그래피에 의한 고분자 레지스트 재료의 성형 가공과 금속 나노 가공이 실현되어, 지금은 단일 나노 크기의 반도체 가공 및 장치 연구가 최첨단으로 진행되고 있다. 20nm 미만의 나노 일렉트로닉스 및 패턴화 된 미디어 자기 기록 매체, LED의 고효율화 등을 달성하기 위한 유망한 나노 제조 도구로써 나노임프린트 기술은 주목을 모으고 있다. 본 특집에서는 산업계에서 독자적으로 개발하고 있는 나노임프린트 기술과 관련하여, 각 회사에서 연구 개발을 시작하게 된 경위와 혁신, 지금까지 개발된 독자적인 재료, 프로세스 및 장치를 소개한다. 나카가와, 가이다, 다가야, 마츠이 |
| 영문독자를 위한 요약 | 680
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| 최신 연구결과 | 683
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| 특집에 부쳐 |
| 나노임프린트 기술의 전망 | 고무로 마사노리 | 684
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| 토픽 |
| 높은 에칭 내성을 갖는 나노임프린트 재료 | 시마타니 사토시 | 685
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| 나노임프린트를 위한 UV 경화성 수지의 개발 | 미야케 히로토 | 687
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| 고분자 복제주형과 그 대형화 기술 | 미야자와 다카히데 | 689
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| Roll-to-Roll용 SRM(연결부위가 없는 원통형 주형)의 개발 | 아베 마사유키 | 691
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| NIL 주형 −sub-20 nm 패턴의 달성을 위하여− | 호가 모리히사 | 693
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| 나노 가공기술의 산업적인 응용 | 미야우치 아키히로 | 695
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| LED용 나노임프린트 기술 및 장치 개발 | 고쿠보 미츠노리 | 697
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| 독자 기술로 도전하는 차세대 반도체 및 HDD 제조 | 와다 히데유키 | 699
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| 광통신용 레이저를 위한 나노임프린트의 응용 | 야나기사와 마사키 | 701
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| 나노임프린트를 이용한 디바이스 개발 -와이어 그리드 편광소자- | 사카모토 히로시 | 703
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| 폴리만화 | 705
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| 고분자과학의 최전선 |
| 나노임프린트 리소그래피에서의 이형기술 | 나카가와 마사루 | 706
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| 성장하는 고분자 |
| 그때로부터 10년, 그리고 10년 후의 나에게 | 와쿠 도모노리 | 710 |
| Messages: “Work and Life” |
| Japan Inter-Society Liaison Association Committee for Promoting Equal Participation of Men and Women in Science and Engineering | Kazue KURIHARA | 711
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| MACRO Economy | 712
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| SPSJ 60th Anniversary: Messages from Research Group | 713
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| Messages from SPSJ | 720
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