| 高分子 Vol.61 No.9 |
| >> Chinese | >> English | >> Japanese | >> Korean |
特集 ナノインプリント技術が拓くものづくりの未来－我社のアプローチ－ |
| 今から約20年前では、産業界で量産化が可能な50 nm未満の微細加工技術は皆無とされていました。1995年に接触造形方式のナノインプリントリソグラフィーによる高分子レジスト材料の成型加工と金属ナノ加工が具現化され、今ではシングルナノサイズでの半導体加工やデバイス研究が最先端で進められています。20
nm未満でのナノエレクトロニクスやパターンドメディア磁気記録媒体、LEDの高効率化などを実践する有望なナノファブリケーションツールとしてナノインプリント技術は有望視されています。本特集号では、産業界で独自に取組まれているナノインプリント技術を、研究開発を始めるに至った各社での経緯やブレークスルー、これまで育まれた独自の材料、プロセス、デバイスを紹介いたします。 中川・海田・多加谷・ゲストエディター松井真二氏（兵庫県立大） |
| Digest for English Readers |
680
|
| Hot Topics |
683
|
| 素描 |
| ナノインプリント技術の展望 | 古室 昌徳 | 684
|
| トピックス |
| 高エッチング耐性ナノインプリント材料 | 嶋谷 聡 | 685
|
| ネガ屋の憧れ － UV ナノインプリント材料の開発－ | 三宅 弘人 | 687
|
| 高分子レプリカモールドとその大型化技術 | 三澤 毅秀 | 689
|
| Roll-to-Roll 用SRM（継目なし円筒モールド）開発 | 阿部 誠之 | 691
|
| NIL モールド－ sub-20 nm を目指して－ | 法元盛久 | 693 |
| ナノ加工技術の産業応用 | 宮内 昭浩 | 695 |
| LED 用ナノインプリント技術・装置開発 | 小久保 光典 | 697 |
| 独自技術で挑戦する次世代半導体・HDD 製造 | 和田 英之 | 699 |
| 光通信用レーザーへのナノインプリントの応用 | 柳沢 昌輝 | 701 |
| ナノインプリントを用いたデバイス開発－ワイヤーグリッド偏光素子－ | 坂本 寛 | 703 |
| Polyman 画 |
705
|
| 高分子科学最近の進歩 |
| ナノインプリントリソグラフィーにおける離型技術 | 中川 勝 | 706
|
| グローイングポリマー |
| あれからの十年、そして十年後の自分へ | 和久 友則 | 710
|
| 先輩からのメッセージ － |
| 男女共同参画学協会連絡会 | 栗原 和枝 | 711
|
| MACRO 経済 |
712
|
| SPSJ 60th Anniversary: Messages from Research Group |
713
|
| 学会からのお知らせ |
720
|
| ページトップへ▲ |
| Copyright(C) 2012 The Society of Polymer Science, Japan All Rights Reserved. |